欢迎访问劳动新闻网
  • 首页
  • 吉林省总工会
  • 新闻
    要闻
    综合
    国际
    国内
  • 焦点
    聚焦
    企业
    人物
    时评
  • 维权
    权益
    就业
    双创
    理论
  • 业态
    财经
    教育
    科技
    卫生
  • 生活
    读书
    健康
    休闲
    旅游
  • 服务
    图片
    论坛
    交流
    形象
  • 文艺
    文学
    摄影
    书法
    美术
  • 您当前的位置:首页 > 业态 > 科技

    宽刀雕细活造出新式光刻机

    5107603.jpg


    11月29日,中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。


    光刻机相当于一台投影仪,将精细的线条图案投射于感光平板,光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。“光太胖,门缝太窄,光就过不去了。”参与研究的科学家杨勇告诉记者。


    使用深紫外光源的光刻机是主流,其成像分辨率极限为34纳米,分辨率进一步提高要用多重曝光等技术,很昂贵。


    2003年光电所开始研究一种新办法:金属和非金属薄膜贴合,交界面会有无序的电子;光线照射金属膜,使这些电子有序振动,产生波长短得多的电磁波,可用于光刻。


    如此一来,“宽刀”就变成了“窄刀”。光电所研制的光刻机,在365纳米波长光源下,单次曝光最高线宽分辨率达到22纳米,相当于1/17波长。


    光刻机为人所熟悉,因为它是集成电路制造业的核心角色。目前荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机,加工极限为7纳米。光电所的光刻机分辨率为22纳米,但定位有所不同。


    光电所的光刻机擅长加工一系列纳米功能器件,包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件,这对中国的遥感成像、生化痕量测量、特种表面材料等领域有重要意义。


    “ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源,价格高达3000万元,还要在真空下使用。”项目副总师胡松说,“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯,只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级,加工能力介于深紫外级和极紫外级之间,让很多用户大喜过望。”


    光电所走高分辨、大面积的技术路线,掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利,技术完全自主可控,在超分辨成像光刻领域国际领先。 

          (高博)


    热文排行 HOT ARTICLE RANKING
    • 1
    • 2
    • 3
    • 4
    • 5
    • 6
    • 7
    • 8
    • 9
    • 10

    主办/运营/版权所有:《劳动新闻》报社 网站备案/许可证号:吉ICP备10000218号-1

    关于我们

    信息公告

    信息公告

    信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告信息公告